Termocoppia del profilo semiconduttore

Il forno di diffusione dell'ossidazione è un'attrezzatura di processo chiave per la produzione di cellule fotovoltaiche. Mescola e diffonde tracce di boro, fosforo e altri elementi sul wafer di silicio ad alte temperature per preparare le giunzioni PN e compone circuiti integrati da esso. Può anche essere usato per preparare i film di siOX sulla superficie del wafer di silicio per proteggere i wafer. Ogni zona di temperatura specificata ha una termocoppia esterna e interna per assicurarsi che i risultati della misura siano affidabili. Le termocoppie in quarzo metallico nobile multipunta vengono utilizzate per misurare la temperatura del wafer, ha comunemente 3 ~ 9 punti di misura, che rappresentano accuratamente la temperatura del wafer.

A tal fine, i Duchin hanno sviluppato tecniche proprietarie e prodotti come la termocoppia di quarzo metallico nobile multipint per la misurazione della temperatura dell'intera sezione nel forno di diffusione, un dispositivo di calibrazione per la termocoppia a più punti.

Il prodotto ha alcuni tratti di misurazione della temperatura affidabile, alta precisione, buona stabilità, risposta termica rapida, anti-interferenza, resistenza all'impatto ad alta e bassa temperatura, durata di lunga durata e così via. I parametri tecnici della termocoppia del profilo semiconduttore sono i seguenti:

Saldatura manuale

Saldatura automatica

Test di isolamento

Marcatura laser

Gestione del magazzino

Assemblaggio della termocoppia

Rilevamento delle perdite sotto vuoto

Lucidatura di superficie

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